Ion Track Technology

PhysicsConsult

Reimar Spohr

PostHeaderIcon Abstract

Method for generating microstructures determined by ion range and etch attack (in German).

Verfahren zum Erzeugen von Mikrostrukturen. (Method for generating microstructures) C. Trautmann, R. Spohr, N. Angert, W. Brüchle, J. Vetter. German Patent 4210486 (filed 31.03.1992, issued 06.05.1993); European Patent No. 0563605 (1995);

Ein Verfahren zum Erzeugen von Mikrostrukturen wie Mikrolöchern oder -kanälen in Festkörpern durch Ätzen von Teilchenspuren, vorzugsweise von Kernspuren hochenergetischer schwerer Ionen aus einem Beschleuniger. Beim Ätzen wird der pH-Wert der Ätzflüssigkeit in mehreren Stufen variiert, das di sogenannte Selektivität, das Verhältnis der Spurätzrate zur Mateialätzrate, vom pH-Wert der Ätzflüssigkeit abhängt. Auf diese Weise lassen sich genau vorbestimmbare Mikrostrukturen bzw. -poren erzeugen.